我院徐明教授在《nature》子刊——“Scientific Reports”上发表学术论文    日期：2016-09-18    点击量：

9 月7日，Nature旗下的《Scientific Reports》在线发表了我校电信学院徐明教授与电子科技大学、南洋理工大学、北京工业大学和新加坡国立大学等单位合作完成的题为“Hydrogen-plasma-induced Rapid, Low-Temperature Crystallization of μm-thick a-Si:H Films”的原创性研究论文（Scientific Reports, 6: 32716; 文章链接：http://www.nature.com/articles/srep32716)。周海平和徐明同为论文第一作者，通讯作者是徐明教授和南洋理工大学徐淑岩教授。西南民族大学是论文的共同第一作者和通讯作者单位。

硅是最重要的微电子材料，以硅为原材料的器件产值占半导体器件总产值的95％以上。用于平板显示和光伏器件等方面的微晶/纳米晶硅薄膜通常是由气相沉积或非晶硅的固相晶化获得，一般需要至少600°C的高温,而且非晶硅厚膜的晶化仍然是一个具有挑战性的课题；另一方面，等离子气相沉积虽然能够实现纳米晶硅薄膜的大面积生长，但其生长速率慢的特点对其成本的降低显然不利。在本文工作中，研究者利用南洋理工大学的低温高密度等离子体装置实现了微米级非晶硅薄膜在低温（300°C）的快速可控晶化，仅通过30分钟氢等离子体处理非晶硅薄膜（~2 μm）就得到了约500 nm厚的纳米晶硅薄膜且其厚度随氢等离子体处理时间的增长几乎线性增加。基于氢等离子体与非晶硅的作用以及低温高密度等离子体的特点，作者对非晶硅低温晶化的物理机制给出了合理解释。

研究者提出的低温高密度等离子体诱导非晶硅薄膜晶化方法也得到了Nature Nanotechnology的肯定，“In this instance, we acknowledge that the improvements of your setup in fabricating thicker crystalline Si films will be of interest to those working with these materials.” 该方法有可能成为继非晶硅的电场增强晶化技术（Nature，395 (1998) 481 ）之后又一重要的非晶硅晶化手段。本文工作的发表为我校在电子科学与技术学科发展和电子功能材料硕士点建设方面提供了重要支撑作用。

《Scientific Reports》是Nature出版集团（NPG）于2011年推出的综合性网络期刊，托管在nature.com，是任何人都可以公开访问的。《Scientific Reports》发表结论可信的原创性研究论文，内容覆盖自然科学各个领域，在国际学术界具有广泛的影响力。